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标题: 三年可实现光刻机的国产替代 [打印本页]

作者: 不点 时间: 2021-5-31 17:26
标题: 三年可实现光刻机的国产替代

北大名誉院长传来好消息!

ASML 不卖光刻机给我们:

三年实现国产替代

2021-05-30 　来源: 搞机二师兄

（转贴时个别字句有改动）

https://www.163.com/dy/article/GB84RJGO05315P41.html

【5月30日讯】相信大家都知道，“缺芯少魂”一直是国内科技行业的最大技术短板，在芯片、操作系统这两大最为核心技术领域，我国绝大部分科技企业都严重依赖于“进口”，尤其是在中兴、华为事件发生以后，更是让国内不少网友们开始担忧，在“实体清单”制裁之下，国内科技产业将如何实现“突破”呢？

　　终于在 2021 年 5 月 27 日，北京正式举办了《2021年中国企业未来发展论坛》，在这个《2021年中国企业未来发展论坛》上，北京大学国家发展研究院名誉院长林毅夫教授一番表态，让广大网友非常激动。林毅夫说：“ASML 首席执行官曾表示，如果不把光刻机卖给中国，大概 3 年以后中国就会自己掌握这个技术，并且一旦中国掌握这个技术，中国的生产成本将会比国际上更便宜，届时全球光刻机巨头 ASML 就到了全面退出光刻机市场的时刻了。”

　　而我们都知道，光刻机一直都是生产制造设备最为核心的设备，尤其是在生产 7nm 及以下工艺芯片产品时，更是离不开荷兰 ASML 公司所生产的 EUV 光刻机，因为荷兰 ASML 公司是目前全球最牛的光刻机企业，也是全球唯一能够量产高端 EUV 光刻机的企业。但荷兰 ASML 公司却对中国企业禁售高端 EUV 光刻机，让中国芯片制造企业无法生产出 7nm 以下工艺的芯片产品。林毅夫一番言论，让广大网友激动不已，不少网友期待国产 EUV 光刻机早日研发出来。

　　那么三年以后，我们真的能够造出属于自己的国产高端光刻机吗？

　　根据国内多家科技媒体爆料，国内实力最强的光刻机巨头——上海微电子，已经研发出了 28nm 工艺浸润式光刻机，并且在经过多重曝光后，可以实现 7nm 工艺芯片量产。虽然这一消息还没有得到最终确认，但从上海微电子官方所透露消息来看，确实也是在研发高端国产光刻机设备。但对于国产高端光刻机研发，国内还是有不少网友当它是个笑话，并不看好国产光刻机的未来发展前景。毕竟高端光刻机全面量产需要解决三大难题，分别是 EUV 光线的生产、EUV 光线的收集以及光刻技术本身。

　　哪怕是全球实力最强的光刻机巨头——荷兰 ASML 公司，也都是整合了 Cymer 公司以及德国 TRUMPF 公司的技术，才生产出了极紫外光线。其中 Cymer 公司是荷兰公司，而德国 Ditzingen 的 TRUMPF 公司又是 ASML 公司独家供应商，因为每年 ASML 公司都会给 TRUMPF 公司投钱搞研发，所以在技术供应方面都是专属的独家协议，其他光刻机厂商也无法获得这些高端 EUV 极紫外光线技术授权。

　　在 EUV 光线收集上，蔡司半导体（Zeiss SMT）所提供的 Distributed Bragg Reflector（分布式布拉格反射器），也是独家供应荷兰 ASML 公司，可以说荷兰 ASML 公司为了能够垄断光刻机市场，更是牢牢将 TRUMPF、蔡司这两家公司捆绑在自己身上。

　　国产高端光刻机技术想要获得重大技术突破，确实还需要解决很多技术短板。在三年内实现国产光刻机替代，确实也存在很高的技术难度。然而即便再难，我们也要做好打长期战的准备，不断提高国产科技水平，这才能让国产科技企业避免被“卡脖子”。

　　最后：针对北大名誉院长林毅夫教授一番表态，各位小伙伴们，你们对此都有什么样的看法和意见呢？欢迎在评论区中留言讨论，期待你们的精彩评论！

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作者: hjx9 时间: 2021-5-31 19:17
加油中国！

作者: 2012fengxi 时间: 2021-5-31 19:20
林教授听听就行了，原来他说过十年实现xx，十年后说下个十年实现xx，在3年也是这样的道理，3年再3年

作者: junyee 时间: 2021-5-31 19:40
头条误国啊.

作者: 2010sya 时间: 2021-5-31 22:12
如果把国产替代换成国产超越，恐怕要30年，或者。。。

作者: xks1678 时间: 2021-6-1 08:48
空谈误国。我相信国家已经牵头做这个事情。举国体制干这保密的事情，岂是我们普通老百姓可知的。我们人才再缺，总比“两弹一星”的时候好吧！可能就缺一点当年的精神。

作者: loveyouluobin 时间: 2021-6-1 16:17
问题是为什么要替代？有好东西不用非得重复造轮子

作者: binyue1985 时间: 2021-6-2 08:14
三年后见真章。。

作者: 王少笑 时间: 2021-6-7 07:52
还需要解决很多技术短板

作者: devilma 时间: 2021-6-7 17:32
起步太晚，光刻机涉及方方面面，最后综合到一起系统集成，相信没几个国家有这样的实力，不是拿嘴说说就行的，重视基础研究人员，尊重科技人员才是我们要做的。

作者: teamviewer 时间: 2021-6-20 11:16
光刻机必须的

作者: ESD 时间: 2021-6-20 11:32
三年还是多少年不清楚但肯定能实现国产化并且未来还能领先

作者: sshyqcnssdy 时间: 2021-6-29 01:22
希望是真的

作者: 百草谷居士 时间: 2021-7-10 22:47
光刻机一直都是生产制造设备最为核心的设备

作者: 2012zhd 时间: 2021-7-12 13:48
韭苔，韭苔...
蒜啦，蒜啦...
葱来，葱来...

作者: 2011slkj 时间: 2021-7-12 13:54
顶起来

作者: cdwengg 时间: 2021-7-12 14:26
我给你三十年！

作者: 百草谷居士 时间: 2021-7-13 17:43
支持呀

作者: 爱启动 时间: 2021-7-30 15:27
国产的加油啦

作者: guyanqiu 时间: 2021-7-30 15:39
能生产到几纳米了呢？

作者: 爱启动 时间: 2021-9-28 13:11
关注现在进展

作者: 爱启动 时间: 2022-2-8 09:39
实现？？？？？

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